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ENTEGRIS INC
Description:
These cartridge filters have superior retention efficiency with rapid particle removal and microbubble control which facilitates faster bath startup and system qualification.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
These pipe fittings are made from PFA.
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ENTEGRIS INC
Description:
These tube fittings are made from PFA.
Numéro de catalogue:
(ENTEIGP-02-060-4-6)
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Isolates corrosive chemicals from gauges.
UOM:
1 * 1 ST
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
High purity PFA and PTFE (all wetted parts).
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ENTEGRIS INC
Description:
Ces portoirs standard pour wafers de 150 mm sont très rigides et offrent une grande stabilité dimensionnelle.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Miscellaneous mask carriers.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Conical pocket holds one wafer face down contacting only the edge of the wafer.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
These tube fittings are made from PVDF, PFA or CPFA.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
1. Slide the ferrule nut onto the tube past the groove.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Squeeze style.
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Galtek® aspirator is ideal for the extraction and/or dilution of fluids from chemical tanks.
Numéro de catalogue:
(ENTEH20-002LB)
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
En copolymère de polyoléfine. Étiquette vierge pour un marquage personnalisé. L'adhésif sensible à la pression est amovible et ne laisse pas de dépôts.
UOM:
1 * 1 ROU
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Plastic film frame rings provide a cost-effective and light weight alternative to expensive, heavy, metal frames to handle wafers during assembly operations and can be used to store and ship finished wafers.
Numéro de catalogue:
(ENTEH6630-0009)
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Wafer handling, Multiple wafer shipping boxes for 76,2 mm (3") wafer handling, H 6630 Series, Assembly, shrink-wrapped, PP, natural
UOM:
1 * 60 ST
Fournisseur:
ENTEGRIS INC
Description:
Liquid photochemical filters designed for developer, DI water and solvent applications in POU photolithography processes.
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